-
בקרת ריכוז חומר קלסר בהכנת גלולות ל-XRF
מבוא לדחיסה באמצעות פלטות בניתוח XRF דחיסה באמצעות פלטות מהווה טכניקת יסוד בתהליך הכנת הדגימות עבור ספקטרוסקופיית פלואורסצנציה של קרני רנטגן (XRF). XRF היא שיטת ניתוח אלמנטרי בה דגימה נחשפת לקרני רנטגן בעלות אנרגיה גבוהה, מה שגורם...קרא עוד -
ייצור ציפוי חסין אש על בסיס מים למבני פלדה
ציפויים חסיני אש על בסיס מים מנוסחים כשכבת מגן למבני פלדה, ומשלבים בטיחות סביבתית עם עמידות אמינה לאש. המאפיינים הבולטים שלהם כוללים פליטות נמוכות של תרכובות אורגניות נדיפות (VOC), היעדר הלוגנים, ו...קרא עוד -
הפחתת כרום לטיפול בשפכים בגלון
סקירה כללית של הפחתת כרום במי שפכים אלקטרוליטיים תעשייתיים כרום משושה (Cr(VI)) הוא מזהם משמעותי בתהליך הציפוי האלקטרוליטי התעשייתי. הוא מוכנס בעיקר באמצעות אמבטיות חומצה כרומית ושלבי גימור משטחים מבוססי כרומט. התוצאה...קרא עוד -
טיפול בגזי פליטה של VOC בתהליכים מתכות
הבנת טיפול בגזי פליטה של תרכובות אורגניות נדיפות (VOC) תרכובות אורגניות נדיפות (VOCs) הן כימיקלים אורגניים המתאדים בקלות בטמפרטורת החדר, מה שהופך אותן לתורמות משמעותיות לזיהום אוויר בתעשיות מתכות. בתהליכים מתכות, מקורות עיקריים של תרכובות אורגניות נדיפות כוללים...קרא עוד -
תהליך הספגה של חומצה כלורופלדית
סקירה כללית של תמיסות הספגה בחומצה כלורופלדית תמיסות הספגה חיוניות בתהליכים תעשייתיים וסביבתיים בהם נדרש שינוי ממוקד של תומכים נקבוביים עבור יישומים החל מקטליזה ועד להפקת מתכות יקרות. חומצה כלורופלדית מופעלת...קרא עוד -
יציקת סגסוגת מגנזיום
חומרי שחרור עובש הם ציפויים חיוניים, מנוסחים במיוחד, המיושמים על משטחי התבנית בתהליך יציקת המטפסים. הם משמשים כמחסומים זמניים, המונעים ממתכת מותכת - כגון סגסוגות מגנזיום - להידבק לתבנית. בידוד זה חיוני ליעילות...קרא עוד -
מדידת צפיפות תרחיף בפלנריזציה כימית-מכנית
פלנריזציה כימית-מכנית (CMP) היא תהליך יסודי בייצור מוליכים למחצה מתקדם. היא מספקת שטוחות ברמה אטומית על פני משטחי פרוסות, ומאפשרת ארכיטקטורות רב-שכבתיות, אריזה הדוקה יותר של התקנים ותפוקות אמינות יותר. CMP משלבת בו זמנית...קרא עוד -
מדידת ריכוז הסתננות במגנטים של ניאודימיום ברזל בורון
מגנטים של ניאודימיום, ברזל ובורון (NdFeB) הם מגנטים קבועים מסוג אדמה נדירה המשלבים ניאודימיום, ברזל ובורון. הם המגנטים המסחריים החזקים ביותר. תוצר האנרגיה הטיפוסי שלהם (BHmax) נע בין 30 ליותר מ-50 MGOe, מה שמעניק שדות מגנטיים צפופים אפילו במתחים קטנים...קרא עוד -
תהליכי הסרת קשרים ביציקת הזרקת מתכת
הסרת חומר מקשר היא שלב מרכזי ברצף הזרקת מתכת (MIM), קריטי לייצור רכיבים באיכות גבוהה. תפקידה הוא להסיר באופן סלקטיבי חומר מקשר מחלקים "ירוקים" - אבקות מתכת יצוקות המוחזקות יחד על ידי מערכת מקשר מהונדסת - תוך שמירה על...קרא עוד -
טיפול מקדים בגלגול
תהליך הטיפול המקדים בציפוי אלקטרוליטי כולל רצף של שלבי ניקוי, התניה והפעלה להכנת משטחים לציפוי אלקטרוליטי. תהליך זה מסיר מזהמים מהשטח, מייעל את הפעילות הכימית ויוצר בסיס לציפוי חזק ואחיד...קרא עוד -
מדידת צפיפות אלקטרוליטים בזהב בזיקוק ומיחזור זהב
תהליכים אלקטרוליטיים בזיקוק ומיחזור זהב מודרניים זיקוק ומיחזור זהב הם מגזר חיוני בתעשיית המתכות היקרות העולמית, החל מבתי זיקוק מסחריים בקנה מידה גדול ועד פעולות מיחזור בקנה מידה קטן. מגזר זה מעבד זהב שמקורו במכרות...קרא עוד -
בקרת ריכוז אולאום בתהליך התכת נחושת
שמירה על ריכוז אולאום אופטימלי מציבה אתגרים ברורים בטכנולוגיות התכת נחושת תעשייתיות. האופי הריאקטיבי והקורוזיבי מטבעו של אולאום דורש מדי ריכוז אולאום חזקים ביותר ושיטות מדידה, המסוגלים לספק נתונים מדויקים...קרא עוד